Chemical Plant Attendance

Efficacemente controllare la frequenza e l'orario di lavoro dei dipendenti a impianti chimici

Questa app consente agli impianti chimici di controllare in modo rapido ed efficiente la presenza e l'orario di lavoro dei dipendenti in un impianto specifico per la gestione delle crisi e l'evacuazione degli impianti chimici.

Non solo funziona come un sistema completo di gestione delle presenze, ma consente anche ai responsabili degli impianti chimici di supervisionare numerosi impianti e vedere quali dipendenti sono attualmente presenti in un impianto in un dato momento.

I lavoratori possono timbrare l'ingresso e l'uscita utilizzando qualsiasi dispositivo mobile da qualsiasi ingresso o uscita. I dati sono sincronizzati con ginstr cloud e sono accessibili da qualsiasi telefono cellulare o tablet.

Ciò è particolarmente utile per le evacuazioni e le situazioni di emergenza quando è importante sapere se l'impianto è stato completamente evacuato o se sono rimasti dei lavoratori nell'impianto.

Caratteristiche:

▶ scegliere la posizione dell'impianto chimico o il punto di ingresso nell'impianto

▶ registrazione delle presenze dei lavoratori all'arrivo e alla partenza dell'impianto chimico con marca temporale

▶ leggere i tag NFC dei nuovi lavoratori direttamente tramite l'app

▶ aggiungi nuovi impianti chimici tramite l'app

▶ registrare automaticamente tutti gli indirizzi dalle coordinate GPS durante l'inserimento dei dati (se la ricezione GPS è disponibile)

▶ registrare automaticamente la data e l'ora di inserimento dei dati

▶ registrare gli accessi degli utenti

Vantaggi:

▶ fornisce un elenco completo dei lavoratori attualmente presso l'impianto chimico

▶ elimina le schede attività cartacee per i singoli lavoratori poiché tutte le ore di lavoro dei dipendenti vengono registrate all'interno dell'app e trasferite a ginstr web per un'ulteriore elaborazione delle buste paga

Questa app ti viene offerta gratuitamente; tuttavia, per utilizzare l'app è necessario acquistare un abbonamento ginstr.